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產(chǎn)品展示
微加工準(zhǔn)分子氣體
微加工準(zhǔn)分子氣體


工業(yè)技術(shù)的升級轉(zhuǎn)型需要平衡日益增長的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準(zhǔn)分子激光的誕生，以其高光子能量所稱著，在對突破材料限制需求越來越迫切的時代，準(zhǔn)分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。作為當(dāng)今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表，準(zhǔn)分子激光器有效地推進(jìn)了諸如半導(dǎo)體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機(jī)金屬沉淀、高溫超導(dǎo)、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫(yī)療、光纖、鉆石打標(biāo)設(shè)備及可替代能源等多種成長型工業(yè)中的技術(shù)革新。準(zhǔn)分子激光氣體是用于準(zhǔn)分子激光設(shè)備中的激光發(fā)生器的關(guān)鍵氣體


常見的準(zhǔn)分子激光氣體和波長相關(guān)：

可用波長

193 nm

ArF

248 nm

KrF

308 nm

XeCl

450nm~520nm

XeF


   

而具體的配比和包裝物和準(zhǔn)分子激光設(shè)備的品牌和型號相關(guān)：


品 牌

機(jī) 型

波 長

準(zhǔn)分子激光氣體

ATL

ATL ARF-1

193 nm

F2,Ar,Xe,Ne

ATL KRF-1

248 nm

F2,Kr,Xe,Ne

TUI

CTFTS-ARFV 2.2

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.1

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.2

248 nm

F2,Kr,He,Xe,Ne

CTMD-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

CTMD-XECLV 2.1

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-ARFV 2.1

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-KRFV 1.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-KRFV 2.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-XECLV 2.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XECLV 5.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XEFV 1.1

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

CTMN-XEFV 1.2

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

GAM Laser

EX5 ArF

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

EX5 KrF

248 nm

F2,Kr,He,Ne

EX5 XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

EX10

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX50

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX100

193 nm

F2,Ar,He,Ne

Photomedex

XeCl

308 nm

HCl,Xe,Ne

Photoscribe

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

PotomacPhotonics

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

Spectranetics

XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne



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